仪器型号：TGP500多功能磁控溅射镀膜机
生产厂家：北京泰科诺科技有限公司
技术参数：
真空腔室 | >500XH420mm | 真空系统 | 复合分子泵(抽速>1200L/S) |
真空极限 | ≤8.0X10-5Pa(空载，经烘烤除气后) | 抽速 | 从大气抽至5.0X10-3Pa<20min(空载) |
漏率 | 设备升压率≤0.8Pa/h | 基片台尺寸 | ≥150mm |
设备简介：该设备配套了分子泵（抽速1200L/S）、机械泵（TRP-36）、3套质量流量控制器（0~500SCCM），支持多弧离子镀膜与磁控溅射双模加工。其中多弧离子镀膜的工作原理是金属靶接阴极，真空室为阳极，触发电极与靶脱离产生电弧，阴极表面形成阴极辉点（每秒几十米速度运动），靶材离子化，外加磁场约束辉点，通入工作气体形成等离子体，高能离子沉积于基底形成镀层；磁控溅射镀膜的工作原理是氩气在电场作用下电离为Ar⁺，Ar⁺高速轰击靶材表面引发溅射；二次电子在电场（E）与磁场（B）作用下做E×B漂移（摆线运动），持续电离氩气提升等离子体密度；溅射的中性靶原子沉积于基片形成薄膜，基片因电子能量低而温升小，该设备集成高真空技术、等离子体技术、温控技术，属精密真空镀膜装备，镀膜性能优异。
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